Agfa Structurix D5 — рентгеновская пленка

Рентгеновская пленка. Мелкозернистая структура. Высокая контрастность. Для контроля сварных швов и литых деталей. Отлично подходит для визуализации разрывов.

Запросить цену
Категория:

Рентгеновская пленка AGFA Structurix D5 — плёнка с мелкозернистой структурой и высоким контрастом. Пленка AGFA Structurix D5 должна использоваться со свинцовыми экранами при рентгеновском или γ-излучениях.

Рентгеновская пленка AGFA Structurix D5 применяется для контроля литых деталей и сварных швов. Рекомендована к применению в судостроении, аэрокосмической и авиационной промышленности.

Соответствие стандартам:

  • EN 584-1;
  • ISO 5655;
  • ISO 7004.
Сенситометрическая кривая

Номограммы экспозиции

Приводимые номограммы позволяют определить продолжительность экспозиции в зависимости от параметров источника излучения и условий съемки.

Изделие из стали (Fe):
Условия:

— рентгеновский аппарат постоянного потенциала;
— использованы свинцовые усиливающие экраны;
— расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
— оптическая плотность: D = 2;
— автоматическая проявка, G135/G335, 28°С, цикл 8 минут.

kV — напряжение на аноде;
mA — сила тока на катоде;
mm — толщина просвечиваемого изделия.
Изделие из алюминия (Al):
Условия:

— рентгеновский аппарат постоянного потенциала;
— расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
— оптическая плотность: D = 2;
— автоматическая проявка, G135/G335, 28°С, цикл 8 минут.

kV — напряжение на аноде;
mA — сила тока на катоде;
mm — толщина просвечиваемого изделия.
Селен 75:
Условия:

— изделие из стали (Fe);
— использованы свинцовые усиливающие экраны;
— расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
— оптическая плотность: D = 2.

GBq.h — активность радиоактивного источника в ГБк в час;
mm — толщина просвечиваемого изделия.
Иридиум 192:
Условия:

— изделие из стали (Fe);
— использованы свинцовые усиливающие экраны;
— расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
— оптическая плотность: D = 2.

GBq.h — активность радиоактивного источника в ГБк в час;
mm — толщина просвечиваемого изделия.
Кобальт 60:
Условия:

— изделие из стали (Fe);
— использованы свинцовые усиливающие экраны;
— расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
— оптическая плотность: D = 2.

GBq.h — активность радиоактивного источника в ГБк в час;
mm — толщина просвечиваемого изделия.
Виды упаковок и формат
  • NIF (упаковка в светонепроницаемом общем конверте без бумажных прокладок): 24×30 см (100 листов), 30×40 см (100 листов);
  • FW (упаковка с бумажными прокладками): 10×24 см (100 листов), 10х40 см (100 листов), 10х48 см (100 листов), 30х40 см (100 листов);
  • Pb VacuPac (листы пленки между свинцовыми экранами толщиной 0,027 мм, запаянные вакуумным способом в пластиковые пакеты, непроницаемые для света, воздуха и влаги): 6х24 см (100 листов), 6х48 см (100 листов), 10х24 см (100 листов), 10х48 см (100 листов), 30х40 см (100 листов).
Условия хранения
  • коробки с пленкой должны храниться на ребре вдали от химреактивов;
  • оптимальная температура хранения t = 4°-24°С;
  • относительная влажность 50-60%;
  • радиоактивный фон менее 90 nGy/h;
  • при температуре хранения ниже 4°С (в отличие от воздействия повышенной температуры) никаких необратимых изменений сенситометрических параметров не происходит. Однако после содержания фотопленки при пониженных температурах, коробки с пленкой следует вскрывать только после ее отогревания до рабочего диапазона температур (t = 4°-24°С). В противном случае, возможна конденсация влаги на фотослое, что может привести к изменению его однородности и склеиванию фотопленки;
  • при условии правильного хранения фирма-изготовитель гарантирует сохранность продукции не менее 1,5 лет. Срок годности продукции указывается на упаковках.
Условия освещения при химико-фотографической обработке

Химико-фотографическая обработка радиографических пленок должна осуществляться в условиях неактиничного освещения, λ>520 нм, оливково-зеленый светофильтр (Agfa G7) или красный светофильтр (Agfa R1) или светодиодное освещение λ=590/λ=660 нм.

Отличительные особенности

При изготовлении пленок AGFA применяется ультрасовременная технология «Split Antistress Layer», которая позволяет наносить на фотографическую эмульсию защитные слои с высокой степенью адгезии к фотослою, что обеспечивает высокую стойкость к давлению, истиранию, сгибам и царапинам.

Преимущества технологии «Split Antistress Layer»:

  • отсутствие повреждений фотослоя в процессе упаковки и распаковки;
  • отсутствие повреждений фотослоя в процессе получения снимка;
  • подавление бликов и переотражений;
  • антистатическая защита;
  • отсутствие повреждений фотослоя в процессе химико-фотографической обработки;
  • возможность использования роликовых проявочных машин (шероховатая поверхность защитного слоя облегчает достижение равномерности транспортировки пленки в проявочных машинах).

Похожие товары

Пролистать наверх